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  • XMD2000聚氨酯碳納米管研磨分散機

    聚氨酯碳納米管研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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    2025-09-06

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  • XMD2000納米光觸媒二氧化鈦分散機

    納米光觸媒二氧化鈦分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000氣硅光油高剪切研磨分散機

    氣硅光油高剪切研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000阿昔洛韋結晶體研磨分散機

    阿昔洛韋結晶體研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000納米氧化鉍高剪切分散機

    納米氧化鉍高剪切分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XRS2000生物農藥高剪切研磨分散機

    生物農藥高剪切研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XRS2000復合碳材料高剪切分散機

    復合碳材料高剪切分散機研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000耐高溫碳化硅高速研磨分散機

    耐高溫碳化硅高速研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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