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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GMD2000石蠟粉研磨分散機(jī)

    石蠟粉研磨分散機(jī)是處理石蠟粉的專用設(shè)備,通過高剪切、研磨作用破解粉體團(tuán)聚。?它能將石蠟粉細(xì)化至均勻粒徑,實(shí)現(xiàn)窄分布,提升與其他物料的混合相容性,保障后續(xù)產(chǎn)品(如涂料、化妝品)的穩(wěn)定性與質(zhì)感。設(shè)備適配多種工藝,耐磨損易清潔,廣泛用于化工、日化等領(lǐng)域。

    更新時(shí)間

    2025-10-29

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  • GMD2000石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī)

    石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī)是處理該漿料的專用設(shè)備,能破解石墨烯易團(tuán)聚難題。通過高剪切、研磨作用,將漿料顆粒細(xì)化并均勻分散,提升漿料導(dǎo)電性與穩(wěn)定性,適配不同濃度漿料需求。設(shè)備耐 NMP 腐蝕,符合工藝標(biāo)準(zhǔn),廣泛用于新能源、電子等領(lǐng)域的石墨烯漿料制備。

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    2025-10-29

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  • GRS2000醫(yī)藥二氧化鈦分散機(jī)

    醫(yī)藥二氧化鈦分散機(jī)是處理藥用級二氧化鈦的專用設(shè)備,通過高剪切、超聲波等作用破解粉體團(tuán)聚。它能將顆粒細(xì)化至規(guī)定粒徑(0.2-0.5μm),實(shí)現(xiàn)窄粒徑分布,保障其作為藥用輔料的增白、遮光效果。設(shè)備符合醫(yī)藥衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn),廣泛用于片劑包衣、藥用油墨等生產(chǎn)場景。

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    2025-10-29

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  • GMD2000催化劑研磨分散機(jī)

    催化劑研磨分散機(jī),是用于催化劑制備的專用設(shè)備,通過剪切、沖擊、研磨作用處理催化劑物料。它能將催化劑顆粒細(xì)化并均勻分散,提升比表面積與反應(yīng)活性,保障催化效率穩(wěn)定。設(shè)備適配多種催化劑類型,可調(diào)節(jié)參數(shù)滿足不同工藝需求,廣泛應(yīng)用于化工、能源等領(lǐng)域的催化反應(yīng)體系。

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    2025-10-29

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  • GMD2000工業(yè)研磨分散機(jī)

    工業(yè)研磨分散機(jī)是集研磨與分散于一體的工業(yè)核心設(shè)備,核心通過研磨介質(zhì)碰撞或定轉(zhuǎn)子高速運(yùn)動(dòng),產(chǎn)生強(qiáng)剪切、研磨力。可將物料細(xì)化至微米甚至納米級,破解顆粒團(tuán)聚,獲均勻粒徑分布,適配高粘度、高硬度物料。廣泛用于涂料、新能源、醫(yī)藥等領(lǐng)域,支持連續(xù)生產(chǎn),保障產(chǎn)品性能穩(wěn)定。

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    2025-10-29

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  • GMD2000納米鹽樹脂分散機(jī)

    納米鹽樹脂分散機(jī)是解決納米級鹽樹脂分散難題的專用設(shè)備,采用“先研磨后分散”一體化結(jié)構(gòu)。一級通過三級研磨頭將顆粒細(xì)化,二級以9000-14000rpm高速分散頭破解團(tuán)聚。可處理高粘度體系,獲均勻粒徑分布,避免傳統(tǒng)設(shè)備效率低、成本高問題,廣泛用于化工、環(huán)保等領(lǐng)域的樹脂分散制備。

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  • GMD2000混懸液分散機(jī)

    混懸液分散機(jī)是用于制備混懸液的專用設(shè)備,核心通過高速剪切、攪拌或研磨作用,將不溶性固體顆粒粉碎并均勻分散于液體介質(zhì)中。它能有效打破顆粒團(tuán)聚,控制粒徑分布,減少沉降,大幅提升混懸液穩(wěn)定性,適配醫(yī)藥、農(nóng)藥等領(lǐng)域的高粘度物料處理。設(shè)備支持間歇或連續(xù)運(yùn)行,部分可精準(zhǔn)控溫,保障下游產(chǎn)品均一性與使用效果。

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    2025-10-29

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  • GM2000化工研磨分散機(jī)

    化工研磨分散機(jī)是化工領(lǐng)域用于物料超細(xì)處理的核心設(shè)備,通過高速旋轉(zhuǎn)的研磨介質(zhì)或定轉(zhuǎn)子,產(chǎn)生剪切、撞擊與研磨力。它能破解固體顆粒團(tuán)聚,實(shí)現(xiàn)物料均勻分散與粒徑細(xì)化,適配涂料、油墨、膠粘劑等多種高粘度、高硬度物料。設(shè)備可精準(zhǔn)控溫與調(diào)節(jié)研磨間隙,保障產(chǎn)品分散性與穩(wěn)定性,滿足工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)需求。

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    2025-10-29

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